Nakennis schreef op 9 augustus 2024 09:32:
Hebben we dit artikel hier al gelezen?
DigiTimes: TSMC wil ASML's high-NA-euv-machines gebruiken voor A14P-node
TSMC wil mogelijk gebruikmaken van ASML's volgende generatie euv-machines voor een A14P-procedé. Dat claimt de Taiwanese krant DigiTimes. De massaproductie moet in 2028 beginnen. TSMC werkt ook aan een 'gewone' A14-node, die nog gebruikmaakt van een ouder euv-systeem.
DigiTimes claimt dat de massaproductie van de A14-node, ook wel '1,4nm', ten vroegste in het derde kwartaal van 2027 begint. Er zal hierbij naar verluidt nog steeds gebruik worden gemaakt van het NXE:3800E-euv-systeem. Een verbeterde versie van dat procedé, genaamd A14P, moet een jaar later uitkomen. Die node zou gebruikmaken van de verbeterde high-NA-euv-machines. Bij het daarop volgende A10-procedé moet het gebruik van high-NA verder worden uitgebreid, stelt DigiTimes.
TSMC heeft tot op heden geen officiële aankondigingen gedaan over het gebruik van high-NA-systemen. De chipmaker kondigde eerder dit jaar een A16-procedé aan, wat zou neerkomen op '1,6nm'. Het bedrijf bevestigde daarbij stellig dat het voor dat procedé geen high-NA-euv zal gebruiken. Het deelde toen nog geen concrete details over zijn komende A14-procedé.
Eerder dit jaar maakte Intel bekend als eerste fabrikant aan de slag te gaan met de high-NA-euv-machines voor zijn 14A-procedé. Die chipmaker ontving vorig jaar ook het eerste high-NA-testsysteem. Ook TSMC, Samsung, Micron en SK hynix hebben volgens ASML inmiddels high-NA-euv-lithografiesystemen besteld. Hoeveel bestellingen voor high-NA-machines de chipmachinemaker heeft ontvangen, wilde het bedrijf eerder dit jaar niet zeggen. Het gaat volgens de fabrikant om een 'tweecijferig' aantal.
High-NA is de nieuwste generatie van de euv-technologie van ASML. De machines hebben een grotere numerieke apertuur: 0,55 in plaats van 0,33. Daardoor zijn ze in staat om kleinere 'features' op een wafer af te beelden. De resolutie zou in theorie 8nm bevatten. Die resolutie duidt op de omvang van het kleinst mogelijke detail dat geprint kan worden met een lithografiemachine. Dat betekent overigens niet dat de machines gebruikt zullen worden voor 8nm-procedés. De huidige euv-machines van ASML hebben bijvoorbeeld een resolutie van 13nm. Die machines worden, ondanks die resolutie, onder andere gebruikt voor de 7nm-, 5nm- en 3nm-chips van TSMC. Samsung gebruikt euv ook sinds zijn 7nm-procedés en Intel zette euv voor het eerst in voor de Intel 4-node.
ASML EXE:5000 high-NA-euv
ASML's EXE:5000-machine voor high-NA-euv. Bron: ASML
tweakers.net/nieuws/224900/digitimes-...